C-31型 双面 国产光刻机
C-31型 双面 国产光刻机
主要用途
主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、声表面波器件的研制和生产。
由于本机找平机构先进,找平力小、使本机适合硅片、玻璃片、陶瓷片、铜片、不锈钢片、宝石片等的曝光。
主要性能指标
1、有三种版夹盘供选择,能真空吸附5"×5"或4"×4"方形掩版(2.5"×2.5"),版的厚度无特殊要求1.5~3mm皆可。分别用于φ4、φ3、φ2基片的曝光。基片厚度0.1~1mm都可以。
2、曝光
(1)光源采用GCQ350型超高压球形汞灯。
(2)照明范围:≤φ110mm
(3)光的不均匀性:φ100mm范围内≤±4%
(4)可使用的波长:G线、H线、I线的组合。(即3500~5000埃)
(5)成像面照明:使用UV—A型表测量,光照度≤15毫瓦/厘米2左右(采用3650测头测量),光学结构原理为16面反射式多点光源。
3、采用进口时间继电器(该继电器可从0.1秒~999.9秒内任意设定)控制“真空快门”。动作准确可靠。
4、该机为双面接触式曝光机,该机特制的翻版机构,能消除基片楔形误差,保证上下二块掩膜版对基片上下两面良好的接触,从而保证基片上下两面的曝光质量。
5、分辨率估量:如果用户的“版”、“片”精度符合国家规定、环境、温度、湿度以及房间净化得到严格控制,采用进口“正性”光刻胶,且匀胶厚度和均匀度也得到严格控制的话,本机曝光最小分辨可达0.002mm,建议使用在≥0.003mm以上。
6、对准:
A、 两个单视场变倍显微镜加二个CCD摄像机加14"显示器。
1)二个单视场变倍显微镜的变倍范围0.7X~4.5X.
2)二个CCD摄像头:平面对角线尺为1/3"。
3)采用19"液晶显示器,总放大倍数为0.7×42~4.5×42=30倍~189倍。
B、对准台
首先真空吸附下掩版(注意掩版四个边,平行于真空吸下掩版的装置四个边),然后将上掩版放在下掩版上,转动曝光头位置,使两个单视场显微镜对准上掩版,调好左右两个显微镜的焦距,从监视屏上看清两个像。调整下掩版X、Y和Q转动,使上掩版上的图像或标记线,显视到显示器屏的左右分开的中间位置,然后真空吸附上掩版。上掩版一旦吸附后,再也不能移动。通过下掩版进行X、Y和Q移动后,实现上下掩版的对准工作。
上下掩版的对准精度≤±0.001mm。
该机的主要优点是,有一个上掩版相对于下掩版的翻转机构,该机构翻转角度≥90º,甚至可达180º,不仅便于上下基片,而且能保证上下掩版对应基片上下面的良好接触。(能补偿基片的楔形误差),又能保证上下掩版对准了的图形重合到原来位置,其误差≤5μm。
这一点很重要,也就是说上下掩版对准后,不管怎么翻动,怎样上下基片,上下掩版的图形仍然是对准的!这对大批量生产的厂家来说很重要,只要上下掩版对准后,你就可以不断地对基片进行双面曝光,曝若干片以后,你如果想观察上下掩版是否仍然对准的,你只要转动曝光头,使显微镜对准版,你就能在显示器上看见,两个版的对准情况。
X、Y调整范围±4mm
Q转角≤±5º
7、设备所需能源:
主机电源220V 50HZ 功耗≤1.5KW
配有一台真空泵,真空泵电源220V
8、尺寸和重量:
尺寸:700(长)×700(宽)×960(高)
重量≤100kg
机体放在专用工作台上
工作台 750(长)×720(宽)×640(高) 高度可调范围0~30mm
重量70kg (工作台后侧装有电气部分)
总重量≤170kg
9、双面对准曝光机的组成
A、 主机
1)主机(含机体和工作台)
2)机体上安装二台单视场可变倍数显微镜,二台CCD摄像头,一台19"显示器,一套很有特色的上下翻版装置,二个16面反射镜式多点光源曝光头。
B、 附件:(用户提出后,可配以下附件)
1)3"上下掩版吸版装置
2)3"上下翻板装置
3)一个350瓦高压球形汞灯
4)真空泵一台
5)Ø8(外径)高压用塑料管15m(用于真空管)一根