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  • 产品名称: C-33型光刻机 4英寸 高精度对准机

  • 产品类型: 光刻机

  • 产品型号:

  • 发布时间: 2024-08-07


产品描述

C-33型光刻机 4英寸 高精度对准机

详情图

 

C-33型光刻机 4英寸 高精度对准机

 

主要用途

  主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、声表面波器件的研制和生产。

  由于本机找平机构先进,找平力小、使本机适合硅片、玻璃片、陶瓷片、铜片、不锈钢片、宝石片等的曝光。

(1) 这是一台双面对准单面曝光的光刻机;

(2) 这台机器又能完成普通光刻机的任何工作;

(3) 同时又是一台检查双面对准精度的检查仪。

 

主要性能指标

(1) 高均匀性LED曝光头。

  光强≤20mw;曝光面积:100mm×100mm

  曝光不均匀性≤3%

  曝光强度≥30mW/cm²可调

  紫外光束角≤3°

  紫外光中心波长365nm、404nm、435nm可选

  紫外光源寿命:≥2万小时

  电子快门精准控制

  对准精度1微米、曝光精度1微米、套刻精度1微米

 

(2) 观察系统为上下各两个单筒显微镜上装四个CCD摄像头通过视屏线连接计算机到液晶显视屏上。

a、 单筒显微镜为0.7X~4.5X连续变倍显微镜;

b、 CCD摄像机靶面对角线尺寸为:1/3″,6mm;

c、 采用19″液晶监视器,其数字放大倍率为19&pide;1/3=57倍;

d、 观察系统放大倍数为:0.7×57≈40倍(最小倍数)

    4.5×57≈256(最大倍数)或(91倍~570倍)

e、 右表板上有一视屏转换开关:向左为下二个CCD,向右为上二个CCD。

 

(3) 计算机硬软件系统:

a、鼠标单击“开始对准”,能将监视屏上的图形记忆下来,并处理成透明的,以便对新进入的图形进行对准;

b、鼠标双击左面或右面图形,就分别全屏显示左或右面图形。

 

(4) 非常特殊的板架装置:

a、该装置能分别装入152×152板架,对版进行真空吸附;

b、该装置安装在机座上,能围绕A点作翻转运动,相对于承片台而言作上下翻转运动,以便于上下版和上下片;

c、该装置来回反复翻转,回到承片台上平面的位置,重复精度为≤±1.5µ;

d、该装置具有补偿基片楔形误差之功能,保证版下平面与片上平面之良好接触,以便提高曝光质量。

 

(5) 承片台调整装置:

a、 配备有Φ75Φ100承片台各一个,这二种承片台有二个长方孔,下面二个CCD通过该孔能观察到版或片的下平面;

b、 承片台能作XYZθ运动,XYZ可作±5mm运动,θ运动为±5°;

c、 承片台密着环相对于版,能实现“真空密着”:

真空密着力≤-0.05Mpa为硬接触;

真空密着力≤-0.05Mpa~-0.02Mpa为软接触;

           真空密着力≤-0.02Mpa为微力接触;

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