C-25X200型 4英寸/6英寸 单面光刻机 精密光刻设备

C-25X200型 4英寸/6英寸 单面光刻机 精密光刻设备

 

C-25X200型 4英寸/6英寸 单面光刻机 精密光刻设备

 

主要用途：

  本机针对各大专院校、企业及科研单位。对光刻机使用特性研发的一种高精度的光刻机，三层减震，组合式，拆卸方便。

  它主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件、薄膜电路、电力电子器件的研制和生产，适合硅片、玻璃片、陶瓷片、铜片、不锈钢片、宝石片的曝光，而且也适合易碎片如:砷化钾、磷化铟的曝光以及非圆形基片和小型基片的曝光。

 

主要性能指标：

1. 多种版夹盘

l C-25X200型4英寸光刻机有四种版夹盘,能真空吸附5" ×5"或4" ×4"或3" ×3"或2.5" ×2.5"方形掩板。对版的厚度无特殊要求（1～4mm皆可）。

l C-25X200型6英寸光刻机有六种版夹盘,能真空吸附7" ×7"或6" ×6"或5" ×5"或4" ×4"或3" ×3"或2.5" ×2.5"方形掩板。对版的厚度无特殊要求（1～4mm皆可）。

 

2. 真空吸附基片的“承片台”

l C-25X200型4英寸光刻机设有相对应的真空吸附基片的“承片台”三个，分别适用于φ2、φ3、φ4片。对于非标准片或碎片，只要堵塞相应的小孔，同样能真空吸附。

l C-25X200型6英寸光刻机设有相对应的真空吸附基片的“承片台”五个，分别适用于φ2、φ3、φ4、φ5、φ6片。对于非标准片或碎片，只要堵塞相应的小孔，同样能真空吸附。

 

3. 照明

l 光源：采用GCQ350Z型超高压水银直流汞灯。

l 照明范围：≤ф100mm

l 不均匀性：ф100mm内±3%

l 可使用的波长：g线、h线、I线的组合。根据用户要求，可增加I线滤光片。

l 成象面照明：光照度10～15毫瓦/厘米²,任意可调(出厂时,照明度调在10mw/cm²)。
曝光分辨率:1μm

l 对准精度： 1μm

l 套刻精度： 1μm

 

4. 采用进口时间继电器（该继电器可从0.1秒∽999.9秒预设）控制气动快门，动作准确可靠。

 

5. 该机为接触式曝光机，但可实现：

l 硬接触曝光：用管道真空来获得高真空接触。真空≤-0.05MPa。

l 软接触曝光：接触压力可将真空降到-0.02MPa ～ -0.05MPa之间。

l 微力接触曝光：小于软接触。真空≥-0.02MPa。

 

6. 分辩率估计

如果用户的“版”、“片”精度符合国家规定，环境、温度、湿度、尘埃得到严格控制，采用进口正性光刻胶，且匀胶厚度得到严格控制。加之前后工艺先进的话，硬接触曝光的最小分辨度可达1μm以上

 

7. 对准

观察系统为两个单筒显微镜上装二个CCD摄像头，通过视屏线连接到显视屏上。

a.单筒显微镜为0.7X～4.5X连续变倍显微镜（也可为1.6X～10X）。

b.CCD摄像机靶面对角线尺寸为：1/3，（6mm）;

c.采用19"液晶监视器，其数字放大倍率为19÷1/3=57倍；

d.观察系统放大倍数为：0.7×57≈40倍（最小倍数），4.5×57≈256倍（最大倍数）或（91倍～570倍）。

对准台：（采用片动，版不动方式）

X、Y调整：±5mm。

θ调整：转角≤5°

对准间隙（分离间隙）0～5mm任意可调。

整个对准台相对于显微镜可作±20mm扫描运动。

“接触、分离”20μm情况下，片相对于版的“漂移量”，可调到≤±0.5μm。

 

8. 设备所需能源：

主机电源： 220V±10%   50HZ

洁净空气≥0.4MPα。

真空：-0.07～－0.08MPα。

 

9. 尺寸和重量：

尺寸：机体720 mm（长）×720 mm（宽）×882mm（高）。

重量：≤100Kg。

机体放在专用工作台上。

工作台:1100 mm（长）×750 mm（宽）×645 mm（高）。

高度可调范围0～30mm。

重量50Kg（工作台后侧装有电气部分）。

总重量≤200Kg

 

10. C-25X200型光刻机的组成

l 主机

主机（含机体和工作台）

对准用单筒显微镜

蝇眼曝光头

l 附件

主机附件

3"□型掩版夹盘

4"□型掩版夹盘（出厂时安装到机器上）

用于2"基片的真空夹持承片台。

用于3"基片的真空夹持承片台（出厂时安装到机器上）

（若需特殊的基片承片台，订货时用户提出）

显微镜组成

单筒显微镜二个

两个CCD

视频连接线。

计算机和22"液晶监视器。